AEG AM 56Z BA 4

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• 作為擁有36年以上歷史的直流電源產(chǎn)品*企業(yè)，AE 為全球成千上萬的客戶提供服務(wù)，通過下列優(yōu)勢、解決客戶復(fù)雜的工藝問題，為客戶創(chuàng)造價(jià)值：
• 高產(chǎn)量
• 靶材使用壽命的延長，利用率提高
• 系統(tǒng)正常運(yùn)行時(shí)間的延長
• 應(yīng)用支持人員
• 全球支持能力
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  AE 的直流電源產(chǎn)品主要通過物理氣相沉積市場上主要使用的物理氣象沉積工藝——合金濺射以及與有反應(yīng)氣體參與的反應(yīng)濺射，AE電源廣泛應(yīng)用于以下制造市場，包括：
   
• 導(dǎo)體（銅、鋁、鉭、鈦以及更新的異類材料）
• 板顯示器（薄膜晶體管、彩色濾光片、有機(jī) LED）
• 據(jù)存儲（光存儲、磁存儲以及磁光存儲相結(jié)合）
• 陽能光伏電池（透明導(dǎo)電氧化物和硅沉積）
• 筑玻璃
• 進(jìn)產(chǎn)品應(yīng)用（用于光學(xué)裝置、工具涂層、塑料等的薄膜）
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• Litmas® RPS 1501和3001遠(yuǎn)程等離子源平臺
• Litmas® RPS 是采用高傳導(dǎo)、低表面面積結(jié)構(gòu)的*整合遠(yuǎn)程感應(yīng)式等離子源和供電系統(tǒng)。非常適合為晶圓預(yù)清洗、光致抗蝕劑剝離和原子層沉積 (ALD) 等工藝提供反應(yīng)氣體。此外，其大功率密度和高傳導(dǎo)性使其成為后處理廢氣治理的理想平臺。
• Litmas RPS 可在不到3毫秒的時(shí)間內(nèi)提供高達(dá)3 kW 的穩(wěn)定射頻功率，從而能夠?qū)崿F(xiàn)90 nm 和300 nm制程的快速變化。
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• Litmas® RPS 前極管道 PFC 治理
• Litmas® RPS 系統(tǒng)是一種前極管道治理解決方案，可減少半導(dǎo)體制程的全球變暖影響。這個(gè)高性能的線性感應(yīng)式等離子源*整合了2 MHz 電源和匹配電路。其在 CVD、蝕刻和灰化應(yīng)用中的阻抗使用范圍很廣。
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• Xstream® 遠(yuǎn)程等離子源
• 高效 Xstream® 遠(yuǎn)程等離子源平臺產(chǎn)生來自穩(wěn)定的原料氣體的中性活性種，用于表面改性、腔室清洗、薄膜蝕刻以及等離子輔助沉積。
  
  安裝在工藝腔室外的 Xstream 平臺整合了遠(yuǎn)程等離子源、6 kW 或8 kW 的高效電源以及獲得的固態(tài)主動式匹配網(wǎng)絡(luò)。該網(wǎng)絡(luò)在一個(gè)腔室清洗源上擁有寬的商業(yè)化阻抗運(yùn)行范圍。Xstream 遠(yuǎn)程等離子源讓工藝工程師擁有的反應(yīng)氣體工藝靈活性，從而提高了系統(tǒng)吞吐量，優(yōu)化了昂貴資源的使用。
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• AE Xstream 不允許在美國或歐洲銷售。 

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